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蚀刻机喷头的作用及维护Function and maintenance of etcher nozzle
1.蚀刻机喷头的介绍：蚀刻机喷头是蚀刻机喷淋装置中最重要的一个部件，药液喷淋的形状是根据蚀刻机喷头的种类来决定的，不同的蚀刻机喷头所起到的作用是不一样的。蚀刻机喷头 2.蚀刻机喷头的作用：主要作用是把蚀刻液均匀的喷淋到工件上，蚀刻机喷发布时间：2018-08-18 点击次数：115 -
蚀刻机腐蚀前处理工艺详解A detailed explanation of the pretreatment process of etching machine
金属腐蚀前处理工艺主要有：感光蚀刻、丝网印刷、贴不干胶，每种工艺都有自己的优点和缺点，等离子刻蚀机厂家可根据自己产品的实际要求，选择相对应的工艺。下面我们就来具体讲解这三种工艺的区别：发布时间：2018-07-28 点击次数：170 -
快速退火炉的维修注意事项Precautions for maintenance of rapid annealing furnace
炉子首次使用或长时间不用后，要在120℃左右烘烤1小时，在300℃左右烘烤2小时后使用，以免造成炉膛开裂。炉温尽量不要超过额定温度，以免损坏加热元件及炉衬。禁止向炉膛内直接灌注各种液体及溶解金属，保持炉内的清洁。2.炉膛若采用石英管，当发布时间：2018-07-14 点击次数：369 -
Application of plasma treatment machine in surface modification of materials等离子处理机在...
低温等离子体中粒子的能量一般约为几个至几十电子伏特，大于聚合物材料的结合键能(几个至十几电子伏特)，完全可以破裂有机大分子的化学键而形成新键；但远低于高能放射性射线，只涉及材料表面，不影响基体的性能。处于非热力学平衡状态下的低发布时间：2018-06-30 点击次数：298 -
等离子体干法去胶机工艺原理及使用Application of plasma dry Resist Asher
等离子体干法去胶机工艺原理及使用1)等离子去胶反应机理：在干法等离子去胶技术中，氧是首要腐蚀气体。它在真空等离子去胶机反响室中受高频及微波能量效果，电离发生氧离子、游离态氧原子O*、氧分子和电子等混合的等离子体发布时间：2018-06-22 点击次数：3163 -
不锈钢装饰蚀刻技术？Stainless steel decorative etching technology?
不锈钢表面化学蚀刻图案文字的工艺原理，是丝印印刷抗酸或耐碱油墨将不锈钢蚀刻板表面不被蚀刻的部分遮盖，屏蔽蚀刻液，使蚀刻液只能接触要蚀除部分的表面，从面达到蚀刻花纹图案和文字的目的，细分又分为阳版蚀刻和发布时间：2018-06-15 点击次数：368 -
感应耦合等离子体刻蚀机结构Structure of inductively coupled plasma etcher
感应耦合等离子刻蚀机（InductivelyCoupledPlasmaEtch，简称ICPE）是化学过程和物理过程共同作用的结果。它的基本原理是在真空低气压下，ICP射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈，以一定比例的混合刻蚀气体经耦合发布时间：2018-06-09 点击次数：434 -
High density plasma etching is a key step in VLSI manufacturing高密度等离子体...
高密度等离子刻蚀机是当今超大规模集成电路制造过程中的关键步骤。已经开发出许多终点检测技术，终点检测设备就是为实现刻蚀过程的实时监控而设计的。光学发射光学发射光谱法（OES）是使用最为广泛的终点检测手段。其原理是利用检测等离子体中某种反应性化发布时间：2018-05-19 点击次数：209 -
如何操作微波等离子去胶机？How to operate microwave plasma degummer?
微波等离子去胶机操作规程： 1、自动切割小车应经空车运转，并选定切割速度； 2、使用钍、钨电极应符合JGJ33-2001第12.7.8条规定； 3、高频发生器应设有屏蔽护罩，用高频引弧后，应立即切断高频电路； 4、应检查并确认电源发布时间：2018-05-12 点击次数：267 -
小型等离子去胶机在工作时的表现Performance of small plasma degummer in operation
小型等离子干法去胶机与其他普通去胶机相比，体积更小、性能优良、用途广泛、效率高、价格低、使用方便。除此之外，小型等离子去胶机还具有十分优秀的均匀性和重复性，因此在各个科研单位和企业中都有十分广泛的应用，而且除了可以进行RIE刻蚀之外，还发布时间：2018-05-05 点击次数：206 -
快速退火炉维修注意事项：Precautions for maintenance of rapid annealing furnace：
1.快速退火炉子首次使用或长时间不用后，要在120℃左右烘烤1小时，在300℃左右烘烤2小时后使用，以免造成炉膛开裂。炉温尽量不要超过额定温度，以免损坏加热元件及炉衬。禁止向炉膛内直接灌注各种液体及溶解金属，保持炉内的清洁。2.炉膛若采发布时间：2018-04-21 点击次数：200 -
Study on the properties of aluminum plating by electron beam evaporation and magn...
随着科学技术的不断发展，半导体器件的种类不断增多。原始点接触晶体管、合金晶体管、合金扩散晶体管、台面晶体管、硅平面晶体管、TTL集成电路和N沟硅栅平面MOS集成电路等，其制造工艺及工艺之间的各道工序也有所差别。在硅平面晶体管工艺过程中，电极发布时间：2018-04-14 点击次数：408