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How to improve the utilization rate is the key point of vacuum magnetron sputte...
磁控溅射靶材的利用率可成为磁控溅射源的工程设计和生产工艺成本核算的一个参数。截止2012年，还没有见到对磁控溅射靶材利用率专门或系统研究的报道，而从理论上对磁控溅射靶材利用率近似计算的探讨具有实际意义。对于静态直冷矩形平面靶，即靶材与磁体之发布时间：2019-08-31 点击次数：213 -
微波等离子干法去胶机影响因素：Influencing factors of microwave plasma dry degumming machine:
微波等离子干法去胶机影响因素： 频率选择：频率越高，氧越易电离形成等离子体。频率太高，以至电子振幅比其平均自由程还短，则电子与气体分子碰撞几率反而减少，使电离率降低。一般常用频率为13.56MHz及2.45GHZ。 功率影响：对于一发布时间：2019-08-17 点击次数：422 -
磁控溅射各有不同工作原理和应用对象Magnetron sputtering has different working principles and applicat...
磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜发布时间：2019-08-03 点击次数：276 -
The third industrial transfer of semiconductors, Chinas decisive victory in th...
国内需求庞大，政府大力支持，技术逐渐成熟，中国芯片产业正在经历进口替代的浪潮。在已经到来的半导体行业第三次产业转移中，中国将以坚定的决心和充分的准备成为最大获益者。 1.1.1.全球半导体行业持续高景气，芯片仍是核心 内存价格上涨带发布时间：2019-07-06 点击次数：163 -
Sputtering is to bombard the target surface with charged particles in vacuum溅射镀...
溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。通常，利用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。阴极靶由镀膜材料制成，基片作为阳极，真空室中通入0.1-10Pa的氩气或其它惰性气体，在阴极（靶）1-3KV直流负发布时间：2019-06-08 点击次数：212 -
微波等离子去胶机操作规程 Operation procedures of microwave plasma degummer:
微波等离子去胶机操作规程： 1、自动切割小车应经空车运转，并选定切割速度； 2、使用钍、钨电极应符合JGJ33-2001第12.7.8条规定； 3、高频发生器应设有屏蔽护罩，用高频引弧后，应立即切断高频电路； 4、应检查并确认电源、发布时间：2019-05-25 点击次数：102 -
真空退火炉工艺布置及高温密封圈概况Process layout and high temperature sealing ring of vacuum anneali...
真空退火炉各段工艺布置：①向上的预热段通道；②向下的直燃段通道；③水平辐射管加热段；④电辐射管均热段；⑤循环保护气体喷射冷却段；⑥炉鼻子系统。在退火过程中，带钢首先通过向上行程的预热段的双密封辊进入炉内开始退火，预热段的加热由直燃段的燃烧产发布时间：2019-05-11 点击次数：284 -
快速退火炉维修注意事项：Precautions for maintenance of rapid annealing furnace：
概述：快速退火炉是以碘钨灯管为发热元件，升温速度极快，采用S型热电偶测温并采用国际领先的模糊PID控制，具有很高的控温精度〈±5℃〉，快速退火炉具有真空装置，可在多种气氛下工作。仅仅是退火炉的一个小品种。维修注意事项：1.炉子首次使用或长发布时间：2019-04-27 点击次数：228 -
In the plasma degumming machine, what is the main gas that plays a degumming ...
小型等离子干法去胶机与其他普通去胶机相比，体积更小、性能优良、用途广泛、效率高、价格低、使用方便。除此之外，小型等离子去胶机还具有十分优秀的均匀性和重复性，因此在各个科研单位和企业中都有十分广泛的应用，而且除了可以进行RIE刻蚀之外，还发布时间：2019-04-13 点击次数：391 -
等离子干法去胶机反应机理：Reaction mechanism of plasma dry degumming machine:
1)等离子干法去胶机反应机理：在干法等离子去胶技术中，氧是首要腐蚀气体。它在真空等离子去胶机反响室中受高频及微波能量效果，电离发生氧离子、游离态氧原子O*、氧分子和电子等混合的等离子体，其间具有强氧化才能的游离发布时间：2019-03-16 点击次数：414 -
Microwave plasma dry degumming machine operation and personnel微波等离子干法去胶机操作及配合人员防...
微波等离子干法去胶机操作及配合人员防护： 1、作业后，应切断电源，关闭气源和水源； 2、高空切割时，必须系好安全带，切接切割周围和下方应采取防火措施，并应有专人监护； 3、现场使用的等离子切割机机，应设有防雨、防潮、防晒的机棚，并发布时间：2019-03-02 点击次数：407 -
PVD沉积方式的比较Comparison of PVD deposition methods
一.PVD是指什么？PVD（PhysicalVaporDeposition），在真空条件下，采用物理方法，使材料源表面气化成原子、分子或离子，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。PVD主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。二.真空蒸镀发布时间：2019-02-16 点击次数：711