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  • 真空等离子清洗原理Principle of vacuum plasma cleaning

    真空等离子清洗原理等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下有第四种状态存在,如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激
    发布时间:2021-04-17   点击次数:338

  • 真空等离子清洗产品特点Characteristics of vacuum plasma cleaning products

    真空等离子清洗产品特点1.超大处理空间,提升处理产能,采用PLC控制系统,精确的控制设备运行。2.可按照客户需求定制,满足客户的需求。3.保养维修成本低,便于客户成本控制。4.高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持
    发布时间:2021-03-16   点击次数:185

  • 磁控溅射镀膜设备在工业中有什么优势What are the advantages of magnetron sputtering equipment in indus...

    磁控溅射镀膜设备在工业中有什么优势磁控溅射镀膜设备发展至今,在工业方面显的极为重要,其作用范围广泛,彻底的改变了传统的镀膜行业。使得镀膜作业在生产质量方面以及效率方面都得到了较大的提升。那么磁控溅射镀膜设备在工业中有什么优势呢?磁控溅射镀膜
    发布时间:2020-11-26   点击次数:256

  • 等离子表面处理和电晕处理有什么不同What is the difference between plasma surface treatment and corona...

    等离子表面处理和电晕处理有什么不同等离子表面处理器与电晕的效果是差不多一样的,只不过处理方式不一样,电晕只能处理很薄的东西,如塑料膜一类的东西,要求处理物体积不能大了,用于宽面积处理。其原理是利用高频率高电压在被处理的塑料表面电晕放电(高频
    发布时间:2020-11-06   点击次数:328

  • 湿法刻蚀机应用广泛Wet etching machine is widely used

    湿法刻蚀机应用广泛湿法刻蚀机应用领域1、半导体元件、印刷线路板的清洗。2、高分子材料表面修饰3、生物芯片、微流控芯片的清洗4、芯片、电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片等的清洗5、各种形状的人工晶体、ATR元件、天然晶体和宝石的清洗。6、
    发布时间:2020-10-26   点击次数:329

  • 等离子刻蚀物的处理Treatment of plasma etchants

    等离子刻蚀物的处理在等离子刻蚀过程中,通过处理气体的作用,被刻蚀物会变成气相(例如在使用氟气对硅刻蚀时)。处理气体和基体物质被真空泵抽出,表面连续被新鲜的处理气体覆盖。不希望被刻蚀部分要使用材料覆盖起来(例如半导体行业用铬做覆盖材料)。  
    发布时间:2020-10-13   点击次数:248

  • 化学气相沉积(CVD)Chemical vapor deposition (CVD)

    化学气相沉积(CVD)CVD是ChemicalVaporDeposition的简称,是指高温下的气相反应,例如,金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解,氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的
    发布时间:2020-09-25   点击次数:650

  • Principle of etching process蚀刻工艺的原理

    蚀刻工艺的原理从专业意义上讲蚀刻的原理是专指金属按照设计和工艺要求,通过专业的蚀刻机所进行的一种受控腐蚀行为。通过这种受控化学加工,可以满足某些特定场合的设计要求,而这些要求是传统机械加工方法所不能达到
    发布时间:2020-09-03   点击次数:156

  • 等离子刻蚀机的检验操作及处理模式Inspection operation and processing mode of plasma etching machine

    等离子刻蚀机的检验操作及处理模式等离子刻蚀机的原理是在真空状态下,利用射频辐射使得氧、氩、氮、四氟化碳等气体生成具有高反应活性的离子与器件等反应形成挥发性化合物,然后由真空系统奖这些挥发性物质清除出去。  等离子刻蚀机检验操作及判断1.确认
    发布时间:2020-08-18   点击次数:152

  • What is the performance of the plasma stripper during etching operation?等离子去胶机进行刻...

    等离子去胶机进行刻蚀操作时有哪些表现?等离子去胶机进行去胶操作十分的简单,并且效率高,去胶后的表面干净光洁、没有任何的划痕、成本低、环保。电介质等离子体去胶机在进行刻蚀时,一般会被应用在电容耦合等离子体平行板反应器上,在平行板
    发布时间:2020-08-05   点击次数:131

  • 等离子体表面处理多久失效How long does plasma surface treatment fail

    等离子体表面处理多久失效对于等离子体的处理时间,离子体处理聚合物表面发生的交联、化学改性、刻蚀主要是因为等离子体使聚合物表层分子发生断键生成大量的自由基。实验说明,随着等离子处理时间的延长、放电功率增大,生成的自由基强度增加,达到最大点后进
    发布时间:2020-07-09   点击次数:233

  • 等离子表面处理技术也具有以下优势Plasma surface treatment technology also has the following advantage...

    等离子表面处理技术也具有以下优势1.环保技术:等离子表面处理作用过程是气固相干式反应,不消耗水资源、无须添加化学药剂2.效率高:整个工艺能在较短的时间内完成3.成本低:装置简单,容易操作维修,少量气体代替
    发布时间:2020-06-29   点击次数:204

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