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  • 磁控溅射的工作原理

    磁控溅射的工作原理  磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,
    发布时间:2020-01-13   点击次数:4

  • 磁控溅射具有“低温”、“高速”两大特点

    磁控溅射具有“低温”、“高速”两大特点产生这两大特点的原理为:磁控溅射是以磁场来改变电子的运动方向,并束缚和延长电子的运动轨迹,从而提高电子对工作气体的电离几率和有效的利用了电子的能量。因此,是正离子对靶材轰击所引
    发布时间:2019-12-30   点击次数:7

  • 什么是平衡磁控溅射和非平衡磁控溅射?

    什么是平衡磁控溅射和非平衡磁控溅射?平衡磁控溅射即传统的磁控溅射,是在阴极靶材背后放置芯部与外环磁场强度相等或相近的永磁体或电磁线圈,在靶材表面形成与电场方向垂直的磁场。沉积室充入一定量的工作气体,通常为Ar,在
    发布时间:2019-12-13   点击次数:17

  • 等离子刻蚀机的检验操作及处理模式

    等离子刻蚀机的检验操作及处理模式  等离子刻蚀机的原理是在真空状态下,利用射频辐射使得氧、氩、氮、四氟化碳等气体生成具有高反应活性的离子与器件等反应形成挥发性化合物,然后由真空系统奖这些挥发性物质清除出去。  一
    发布时间:2019-11-28   点击次数:14

  • 等离子综合性技术有哪些?

    等离子综合性技术有哪些?等离子体技术是一个集物理学、化学、生物学和环境科学于一体的交叉综合性技术,该技术显著特点是对污染物兼具物理效应、化学效应和生物效应,且有能耗低、效率高、无二次污染等明显优点。&
    发布时间:2019-11-14   点击次数:24

  • 等离子刻蚀技术

    等离子刻蚀技术等离子刻蚀机,又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀,是干法刻蚀中最常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气
    发布时间:2019-10-31   点击次数:22

  • 等离子清洗机在半导体刻蚀工艺中的应用

    等离子清洗机在半导体刻蚀工艺中的应用生产集成电路的第一步是通过掩模向基底透射电路图案。光敏性聚合物光刻胶经紫外线曝光后,受照射部分通过显影作用去除。一旦电路图案在光刻胶上定型后,即可通过刻蚀工艺将图案复制到多晶硅等质地的基底薄膜上,从而形成
    发布时间:2019-10-11   点击次数:40

  • 等离子技术在汽车工业的使用

    随着经济的发展,消费者对汽车的性能要求越来越高,如汽车的外观、操作舒适性可靠性、使用耐久性等要求也不断提高。为了满足消费者的要求,各汽车厂家在生产汽车时更注重细节方面的优化改进,如进行(
    发布时间:2019-09-27   点击次数:57

  • 干法去胶工艺原理及使用?

    大气等离子处理器让生产成本和产品价格下降等离子加工机是工件的等离子体表面处理的表面,使工件的表面,以增强附着力,便于包装和粘附性,这是非常重要的在包装印刷行业。因为在等离子表面处理设备前就没有出现糊大大提高印刷和包
    发布时间:2019-09-16   点击次数:773

  • 如何提高利用率是真空磁控溅射镀膜行业的重点

    磁控溅射靶材的利用率可成为磁控溅射源的工程设计和生产工艺成本核算的一个参数。截止2012年,还没有见到对磁控溅射靶材利用率专门或系统研究的报道,而从理论上对磁控溅射靶材利用率近似计算的探讨具有实际意义。对于静态直冷矩形平面靶,即靶材与磁体之
    发布时间:2019-08-31   点击次数:64

  • 微波等离子干法去胶机影响因素:

    微波等离子干法去胶机影响因素:  频率选择:频率越高,氧越易电离形成等离子体。频率太高,以至电子振幅比其平均自由程还短,则电子与气体分子碰撞几率反而减少,使电离率降低。一般常用频率为13.56MHz及2.45GHZ。  功率影响:对于一
    发布时间:2019-08-17   点击次数:102

  • 磁控溅射各有不同工作原理和应用对象

    磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源镀膜
    发布时间:2019-08-03   点击次数:107

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