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Magnetron sputtering (磁控溅射台))

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  • 等离子表面处理技术也具有以下优势Plasma surface treatment technology also has the following advantage...

    等离子表面处理技术也具有以下优势1.环保技术:等离子表面处理作用过程是气固相干式反应,不消耗水资源、无须添加化学药剂2.效率高:整个工艺能在较短的时间内完成3.成本低:装置简单,容易操作维修,少量气体代替
    发布时间:2020-06-29   点击次数:152

  • 选择真空退火炉需要考虑的因素 Factors to be considered in selecting vacuum annealing furnace

      真空退火炉是实现真空热处理的重要设备。随着真空退火炉在我们生产生活中的应用越来越广泛,选购真空退火炉也成为消费者头疼的问题,那么选择真空退火炉需要考虑的因素有哪些呢?下面小编给大家介绍下。  1、应根据所要热处理的零件化学成分和加热温度
    发布时间:2019-07-20   点击次数:135

  • 磁控溅射设备的主要用途Main uses of magnetron sputtering equipment

    (1)各种功能性薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如,低温沉积氮化硅减反射膜,以提高太阳能电池的光电转换效率。(2)装饰领域的应用,如各种全反射膜及半透明膜等,如手机外壳,鼠标等。(3)在微电子领域作为一种非热式镀膜
    发布时间:2019-06-22   点击次数:369

  • 磁控溅射种类?Magnetron sputtering type?

      磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。  靶源分平衡和非平衡式,平衡式
    发布时间:2019-03-30   点击次数:281

  • 金属化学蚀刻机的步骤Steps of metal chemical etching machine

      工业上金属等离子刻蚀机的化学腐蚀通常有下述四个步骤:  1.清洁处理:其目的是将待腐蚀零件毛培表面的各种污渍清洗干净,以保证防蚀层能与金属表面的粘附力均匀一致,并使蚀刻速度均匀不变。常用的清洁处理方法有:有机溶剂清洁、碱性化学清洁、酸性
    发布时间:2018-12-08   点击次数:259

  • 蚀刻机喷头的作用及维护Function and maintenance of etcher nozzle

      1.蚀刻机喷头的介绍:蚀刻机喷头是等离子刻蚀机喷淋装置中Z重要的一个部件,药液喷淋的形状是根据蚀刻机喷头的种类来决定的,不同的蚀刻机喷头所起到的作用是不一样的。  2.蚀刻机喷头的作用:主要作用是把蚀刻液均匀的喷淋到工件上,蚀刻机喷头根
    发布时间:2018-11-10   点击次数:347

  • 等离子刻蚀机的缺点?Disadvantages of plasma etcher?

    1、硅片水平运行,机片高(等离子刻蚀去PSG槽式浸泡甩干,硅片受冲击小);2、下料吸笔易污染硅片(等离子刻蚀去PSG后甩干);3、传动滚抽易变形(PVDF,PP材质且水平放置易变形);4、成本高(化学品刻蚀代替等离子刻蚀成本增加)。此外,
    发布时间:2018-04-28   点击次数:115

  • 等离子刻蚀工艺--装片Plasma etching process -- chip loading

    等离子体系统效应的过程转换成材料的蚀刻工艺。在待刻蚀硅片的两边,分别放置一片与硅片同样大小的玻璃夹板,叠放整齐,用夹具夹紧,确保待刻蚀的硅片中间没有大的缝隙。冷热探针法冷热探针法将夹具平稳放入反应室的支架上,关好反应室的盖子。等离子刻蚀检验
    发布时间:2018-03-17   点击次数:224

  • 刻蚀的具体过程可描述几个步骤?How many steps can be described in the etching process?

    当刻蚀气体被通入刻蚀反应腔中,在射频电场的作用下产生等离子体辉光放电,反应气体分解成各种中性的化学活性基团,分子、电子、离子;由于电子和离子的质量不同使得质量较轻的电子能够响应射频电场的变化而离子却不能,正是这种差异在电极上产生负偏压Vd
    发布时间:2018-02-01   点击次数:104

  • 赛森电子科技是做什么的?What does Cycas electronic technology do?

    苏州赛森电子科技有限公司成立于2014年,是一家为国内半导体,MEMS及光电产业客户提供再制造设备,零配件及服务的公司。我们的核心产品线包括NovellusC1/C2PECVD,LamRainbow/TCP系列刻蚀机以及AMATP5
    发布时间:2018-02-01   点击次数:118

  • Reactive ion etching machine is an independent RIE reactive ion etching system反...

    反应离子刻蚀机是一款独立式RIE反应离子刻蚀系统,配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品。具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"
    发布时间:2018-02-01   点击次数:226

  • 如何提高磁控溅射台的溅射效率?How to improve sputtering efficiency of magnetron sputtering table?

    磁控溅射台通常的溅射方法,溅射效率不高。为了提高溅射效率,首先需要增加气体的离化效率。为了说明这一点,先讨论一下溅射过程。当经过加速的入射离子轰击靶材(阴极)表面时,会引起电子发射,在阴极表面产生的这些电子,开始向阳极加速后进人负辉光区,并
    发布时间:2018-01-04   点击次数:311

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