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什么是全自动型磁控溅射台?What is a fully automatic magnetron sputtering table?
什么是全自动型磁控溅射台?磁控溅射是为了在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率的方法,全自动型磁控溅射台,通过对真空系统,下游压力闭环控制,射频发布时间：2018-04-08 点击次数：276 -
小型等离子去胶机在工作时的表现Performance of small plasma degummer in operation
小型等离子干法去胶机与其他普通去胶机相比，体积更小、性能优良、用途广泛、效率高、价格低、使用方便。除此之外，小型等离子去胶机还具有十分优秀的均匀性和重复性，因此在各个科研单位和企业中都有十分广泛的应用，而且除了发布时间：2018-03-10 点击次数：245 -
蚀刻机腐蚀加工蚀刻网片的工艺流程Process flow of etching mesh by etching machine
蚀刻网又称过滤网，采用金属薄片通过蚀刻机腐蚀加工而成，佛山鑫恒力五金机械厂是一家专业生产金属腐蚀机的厂家，我们可按照客户的要求提供全套腐蚀设备和蚀刻工艺技术,蚀刻网片主要作用于生活中的液体分离，常见的产品名称有茶网、豆网、筛网、喇叭网、花发布时间：2018-03-03 点击次数：251 -
等离子刻蚀机通常有几种形式？How many kinds of plasma etchers are there?
等离子刻蚀机通常有三种形式：等离子体刻蚀、离子轰击和两种形式的结合反应离子刻蚀（ReactiveIonEtching），下表给出三种刻蚀的特点对照。离子轰击顾名思义是利用高能量惰性气体离子轰击硅片表面，达到溅射刻蚀的作用。因为采用这种方发布时间：2018-02-01 点击次数：287 -
What is intermediate frequency magnetron sputtering?
在中频反应溅射中，当靶上所加的电压处于负半周时，靶面被正离子溅射；而在正半周时，等离子体中的电子被加速到靶面，中和了靶面上积累的正电荷，从而抑制了打火。但在确定的工作场强下，频率越高，等离子体中正离子发布时间：2018-02-01 点击次数：140 -
Measurement and control of plasma etching in plasma etcher等离子刻蚀机的等离子刻蚀的测量与控制
由于等离子刻蚀机工艺中的过程变量，如刻蚀率、气压、温度、等离子阻抗，等等，不易测量，虚拟测量（VirtualMetrology）光谱测量（Opticalemissionspectroscopy）等离子阻抗监控（Plasmaimpe发布时间：2018-02-01 点击次数：128 -
微波等离子去胶机操作规程 Operation procedures of microwave plasma degummer:
微波等离子去胶机操作规程： 1、自动切割小车应经空车运转，并选定切割速度； 2、使用钍、钨电极应符合JGJ33-2001第12.7.8条规定； 3、高频发生器应设有屏蔽护罩，用高频引弧后，应立即切断高频电路； 4、应检查并确认电源、发布时间：2018-02-01 点击次数：146 -
Etching is one of the key technologies to determine the feature size刻蚀是决定特征尺寸的核心工艺...
在众多半导体工艺中，刻蚀是决定特征尺寸的核心工艺技术之一。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀。湿法刻蚀采用化学腐蚀进行，是传统的刻蚀工艺。它具有各向同性的缺点，即在刻蚀过程中不但有所需要的纵向刻蚀，也有不需要的横向刻蚀，因而精度差，线宽一般在3um发布时间：2018-02-01 点击次数：153 -
The sputtering process involves complex scattering process and multiple ener...
直流溅射法要求靶材能够将从离子轰击过程中得到的正电荷传递给与其紧密接触的阴极，从而该方法只能溅射导体材料，不适于绝缘材料，因为轰击绝缘靶材时表面的离子电荷无法中和，这将导致靶面电位升高，外加电压几乎都加在靶上，两极间的离子加速与电离的机会将发布时间：2018-01-04 点击次数：132 -
如何操作微波等离子去胶机？How to operate microwave plasma degummer?
微波等离子去胶机操作规程： 1、自动切割小车应经空车运转，并选定切割速度； 2、使用钍、钨电极应符合JGJ33-2001第12.7.8条规定； 3、高频发生器应设有屏蔽护罩，用高频引弧后，应立即切断高频电路； 4、应检查并确认电源、发布时间：2018-01-04 点击次数：145 -
反应离子刻蚀机检验操作及判断Inspection operation and judgment of reactive ion etching machine
反应离子刻蚀机是一款独立式RIE反应离子刻蚀系统，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品。具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔，便于晶圆片装载.腔体有两个端口：一个带有2"发布时间：2018-01-04 点击次数：119 -
等离子刻蚀机的应用Application of plasma etcher
等离子体处理可应用于所有的基材，甚至复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、等离子体清洗，等离子体镀膜也毫无问题。等离子体处理时的热负荷及机械负荷都很低，因此，低压等离子体也能处理敏感性材料。等离子刻蚀机的典型应用包括：等离子体清除浮渣光阻材发布时间：2018-01-04 点击次数：185