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真空等离子清洗原理等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下有第四种状态存在,如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激
发布时间:2021-04-17 点击次数:338
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真空等离子清洗产品特点1.超大处理空间,提升处理产能,采用PLC控制系统,精确的控制设备运行。2.可按照客户需求定制,满足客户的需求。3.保养维修成本低,便于客户成本控制。4.高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持
发布时间:2021-03-16 点击次数:185
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等离子表面处理技术也具有以下优势1.环保技术:等离子表面处理作用过程是气固相干式反应,不消耗水资源、无须添加化学药剂2.效率高:整个工艺能在较短的时间内完成3.成本低:装置简单,容易操作维修,少量气体代替
发布时间:2020-06-29 点击次数:204
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等离子体表面处理的技术及应用对于等离子体表面处理技术对表面清洗,可以清除表面上的脱模剂和添加剂等,而其活化过程,则可以确保后续的粘接工艺和涂装工艺等的品质,对于涂层处理而言,则可以进一步改善复合物的表面特性。使用
发布时间:2020-06-10 点击次数:459
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等离子体表面处理的原理等离子,即物质的第四态,是由部分电子被剥夺后的原子以及原子被电离后产生的正负电子组成的离子化气状物质。它的能量范围比气态、液态、固态物质都高,存在具有一定能量分布的电子、离子和
发布时间:2020-05-26 点击次数:226
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等离子体清洗机表面改性、表面活化、刻蚀、纳米涂层一台设备全搞定等离子体是气体分子在真空、放电等特殊场合下产生的物质。等离子清洗、刻蚀产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电磁场,用真空泵实现一定的真空度
发布时间:2020-05-07 点击次数:286
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怎么选等离子清洗机设备厂商呢?首先,要根据工艺要求,选择适合的等离子清洗机设备,即大气等离子清洗机或者真空等离子清洗机。其次,等离子清洗机品牌
发布时间:2020-04-14 点击次数:150
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等离子清洗机效果如何评估等离子清洗机是利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态,并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的
发布时间:2020-04-01 点击次数:223
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等离子体清洗机表面改性、表面活化、刻蚀、纳米涂层一台设备全搞定等离子体是气体分子在真空、放电等特殊场合下产生的物质。等离子清洗、刻蚀产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电磁场,用真空泵实现一定的真空度
发布时间:2020-03-16 点击次数:117
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等离子清洗机在手机行业中的应用等离子清洗机(plasmacleaner)也叫等离子表面处理设备,是一种全新的高科技技术,利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的
发布时间:2020-03-06 点击次数:218
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等离子表面处理技术在塑料行业的应用由于大多数塑料材料的表面张力很低,因此过去的很多设计往往是迁就材料,只要在经过一定的等离子表面处理后表面能达到了喷涂或粘接等工艺的要求,就优先考虑使用这种材料。&n
发布时间:2020-02-18 点击次数:101
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等离子刻蚀机的检验操作及处理模式 等离子刻蚀机的原理是在真空状态下,利用射频辐射使得氧、氩、氮、四氟化碳等气体生成具有高反应活性的离子与器件等反应形成挥发性化合物,然后由真空系统奖这些挥发性物质清除出去。 一
发布时间:2019-11-28 点击次数:225
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等离子综合性技术有哪些?等离子体技术是一个集物理学、化学、生物学和环境科学于一体的交叉综合性技术,该技术显著特点是对污染物兼具物理效应、化学效应和生物效应,且有能耗低、效率高、无二次污染等明显优点。&
发布时间:2019-11-14 点击次数:137
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等离子刻蚀技术等离子刻蚀机,又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀,是干法刻蚀中最常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气
发布时间:2019-10-31 点击次数:263
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等离子清洗机在半导体刻蚀工艺中的应用生产集成电路的第一步是通过掩模向基底透射电路图案。光敏性聚合物光刻胶经紫外线曝光后,受照射部分通过显影作用去除。一旦电路图案在光刻胶上定型后,即可通过刻蚀工艺将图案复制到多晶硅等质地的基底薄膜上,从而形成
发布时间:2019-10-11 点击次数:173
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真空退火炉是实现真空热处理的重要设备。随着真空退火炉在我们生产生活中的应用越来越广泛,选购真空退火炉也成为消费者头疼的问题,那么选择真空退火炉需要考虑的因素有哪些呢?下面小编给大家介绍下。 1、应根据所要热处理的零件化学成分和加热温度
发布时间:2019-07-20 点击次数:166
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国内需求庞大,政府大力支持,技术逐渐成熟,中国芯片产业正在经历进口替代的浪潮。在已经到来的半导体行业第三次产业转移中,中国将以坚定的决心和充分的准备成为最大获益者。 1.1.1.全球半导体行业持续高景气,芯片仍是核心 内存价格上涨带
发布时间:2019-07-06 点击次数:162
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微波等离子去胶机操作规程: 1、自动切割小车应经空车运转,并选定切割速度; 2、使用钍、钨电极应符合JGJ33-2001第12.7.8条规定; 3、高频发生器应设有屏蔽护罩,用高频引弧后,应立即切断高频电路; 4、应检查并确认电源、
发布时间:2019-05-25 点击次数:101
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小型等离子干法去胶机与其他普通去胶机相比,体积更小、性能优良、用途广泛、效率高、价格低、使用方便。除此之外,小型等离子去胶机还具有十分优秀的均匀性和重复性,因此在各个科研单位和企业中都有十分广泛的应用,而且除了可以进行RIE刻蚀之外,还
发布时间:2019-04-13 点击次数:390
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工业上金属等离子刻蚀机的化学腐蚀通常有下述四个步骤: 1.清洁处理:其目的是将待腐蚀零件毛培表面的各种污渍清洗干净,以保证防蚀层能与金属表面的粘附力均匀一致,并使蚀刻速度均匀不变。常用的清洁处理方法有:有机溶剂清洁、碱性化学清洁、酸性
发布时间:2018-12-08 点击次数:316
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常见问题如下: 1.1mi标牌蚀刻机能腐蚀的材料长度不限,而有效蚀刻是1000mm指长度吗,然后有效宽度是800mm? 答:有效蚀刻1000mm:是指蚀刻机药水喷淋区域的长度是1000mm(此处仅为蚀刻机规格大小,腐蚀区大小决定加
发布时间:2018-11-24 点击次数:289
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工业上金属等离子刻蚀机的化学腐蚀通常有下述四个步骤: 1.清洁处理:其目的是将待腐蚀零件毛培表面的各种污渍清洗干净,以保证防蚀层能与金属表面的粘附力均匀一致,并使蚀刻速度均匀不变。常用的清洁处理方法有:有机溶剂清洁、碱性化学清洁、酸性
发布时间:2018-10-27 点击次数:227
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金属等离子刻蚀机蚀刻技术在制作网版的过程中,有时在图文部分往往出现显影不透的现象,主要有以下几个方面的原因: 一.是在恒温箱中烘干网版的时间太长或烘干的温度太高,两者都可使涂布感光胶的网版在没有曝光之前就产生“热敏化”,如果再曝光
发布时间:2018-11-02 点击次数:112
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想要弄清楚人工腐蚀和使用蚀刻机腐蚀的区别,我们先要弄清楚人工腐蚀和蚀刻机腐蚀各需要做什么操作,这些操作中我们需要哪些工具或者腐蚀机,投资成本和日产量各是多少?工艺流程这里以感光腐蚀工艺
发布时间:2018-10-13 点击次数:186
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带RIE等离子刻蚀机是干法刻蚀中zui常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成了等离子或离子,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀
发布时间:2018-09-30 点击次数:470
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1)微波等离子去胶机理: 在干法等离子去胶工艺中,氧是主要腐蚀气体。它在真空等离子去胶机反应室中受高频及微波能量作用,电离产生氧离子、游离态氧原子O*、氧分子和电子等混合的等离子体,其中具有强氧化能力的游离态氧原子(约占10-2
发布时间:2018-10-08 点击次数:923
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金属腐蚀机和激光蚀刻机两者的工作原理是不相同的,金属腐蚀机是通过高压喷淋的方式将化学药水喷淋到金属表面与其发生化学反应,通俗来讲,就是一种氧化还原的过程;激光等离子刻蚀机是通过高能激光速通过激光器产生后由反射镜传递
发布时间:2018-09-21 点击次数:956
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近几十年来,化学蚀刻机运用化学腐蚀作为一种高精密而科学的化学腐蚀加工技术,在金属材料上被广泛用于腐蚀多种种类的图文及外形加工。特别是航天和航空工业,几乎随处都能够见到使用化学蚀刻加工技术生产的产品应用到生活中。然而作为一种化学减薄切割加工
发布时间:2018-09-08 点击次数:200
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一、钛和钛合金的概述: Ti在地壳中的丰度为0.56%(质量分数,下同),在所有按元素中居第9位,而在可作为结构材料的金属中居第4位,仅次于Al、Fe、Mg,其储量比常见金属Cu,Pb,Zn储量的总和还多。我国钛资源丰富,储量为世界第一。
发布时间:2018-08-25 点击次数:1031
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低温等离子体中粒子的能量一般约为几个至几十电子伏特,大于聚合物材料的结合键能(几个至十几电子伏特),完全可以破裂有机大分子的化学键而形成新键;但远低于高能放射性射线,只涉及材料表面,不影响基体的性能。处于非热力学平衡状态下的低
发布时间:2018-06-30 点击次数:290
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不锈钢表面化学蚀刻图案文字的工艺原理,是丝印印刷抗酸或耐碱油墨将不锈钢蚀刻板表面不被蚀刻的部分遮盖,屏蔽蚀刻液,使蚀刻液只能接触要蚀除部分的表面,从面达到蚀刻花纹图案和文字的目的,细分又分为阳版蚀刻和
发布时间:2018-06-15 点击次数:363
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不久前,央视报道了这样的一则消息,中微半导体设备公司将在今年年底正式敲定5nm刻蚀机!而刚刚发布的苹果A11芯片以及华为的麒麟970均是使用10nm工艺。当所有的巨头还在为10nm,7nm技术大肆进军的时候,中国中微正式宣布掌握5nm技术,
发布时间:2018-06-02 点击次数:182
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高密度等离子刻蚀机是当今超大规模集成电路制造过程中的关键步骤。已经开发出许多终点检测技术,终点检测设备就是为实现刻蚀过程的实时监控而设计的。光学发射光学发射光谱法(OES)是使用最为广泛的终点检测手段。其原理是利用检测等离子体中某种反应性化
发布时间:2018-05-19 点击次数:203
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微波等离子去胶机操作规程: 1、自动切割小车应经空车运转,并选定切割速度; 2、使用钍、钨电极应符合JGJ33-2001第12.7.8条规定; 3、高频发生器应设有屏蔽护罩,用高频引弧后,应立即切断高频电路; 4、应检查并确认电源
发布时间:2018-05-12 点击次数:264
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小型等离子干法去胶机与其他普通去胶机相比,体积更小、性能优良、用途广泛、效率高、价格低、使用方便。除此之外,小型等离子去胶机还具有十分优秀的均匀性和重复性,因此在各个科研单位和企业中都有十分广泛的应用,而且除了可以进行RIE刻蚀之外,还
发布时间:2018-05-05 点击次数:204
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1、硅片水平运行,机片高(等离子刻蚀去PSG槽式浸泡甩干,硅片受冲击小);2、下料吸笔易污染硅片(等离子刻蚀去PSG后甩干);3、传动滚抽易变形(PVDF,PP材质且水平放置易变形);4、成本高(化学品刻蚀代替等离子刻蚀成本增加)。此外,
发布时间:2018-04-28 点击次数:163
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带RIE等离子刻蚀机是干法刻蚀中最常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成了等离子或离子,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合
发布时间:2018-03-31 点击次数:153
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随着科技技术发展,电子设备小型化的趋势愈发明显,而所有电子设备核心中的核心芯片技术工艺水平更是需要精确到纳米级别,同时也是目前世界各国为之竞争的焦点。而众所周知,长久以来,我国芯片领域都严重依赖于进口,每年为此付出千亿美元进口美日产品,甚至
发布时间:2018-03-28 点击次数:211
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日前,央视财经频道播出的《感受中国制造》第五集《中国“芯”力量》介绍了中国在半导体设备和半导体原材料上取得的成绩和进步。其中,最引人瞩目的莫过于中国企业在刻蚀机上取得的成绩——16nm刻蚀机实现商业化量产并在客户的生产线上运行,7-10nm
发布时间:2018-03-24 点击次数:185
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小型等离子干法去胶机与其他普通去胶机相比,体积更小、性能优良、用途广泛、效率高、价格低、使用方便。除此之外,小型等离子去胶机还具有十分优秀的均匀性和重复性,因此在各个科研单位和企业中都有十分广泛的应用,而且除了
发布时间:2018-03-10 点击次数:244
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在众多半导体工艺中,刻蚀是决定特征尺寸的核心工艺技术之一。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀。湿法刻蚀采用化学腐蚀进行,是传统的刻蚀工艺。它具有各向同性的缺点,即在刻蚀过程中不但有所需要的纵向刻蚀,也有不需要的横向刻蚀,因而精度差,线宽一般在3um
发布时间:2018-02-01 点击次数:152
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微波等离子去胶机操作规程: 1、自动切割小车应经空车运转,并选定切割速度; 2、使用钍、钨电极应符合JGJ33-2001第12.7.8条规定; 3、高频发生器应设有屏蔽护罩,用高频引弧后,应立即切断高频电路; 4、应检查并确认电源、
发布时间:2018-02-01 点击次数:145
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感应耦合等离子刻蚀机(InductivelyCoupledPlasmaEtch,简称ICPE)是化学过程和物理过程共同作用的结果。它的基本原理是在真空低气压下,ICP射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈,以一定比例的混合刻蚀气体经耦合
发布时间:2018-06-09 点击次数:429
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反应离子刻蚀机是一款独立式RIE反应离子刻蚀系统,配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品。具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"
发布时间:2018-02-01 点击次数:284
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太阳能电池发电原理:太阳能电池是一对光有响应并能将光能转换成电力的器件。能产生光伏效应的材料有许多种,如:单晶硅,多晶硅,非晶硅,砷化镓,硒铟铜等。它们的发电原理基本相同,现以晶体为例描述光发电过程。P型晶体硅经过掺杂磷可得N型
发布时间:2018-02-01 点击次数:198
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等离子体处理可应用于所有的基材,甚至复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、等离子体清洗,等离子体镀膜也毫无问题。等离子体处理时的热负荷及机械负荷都很低,因此,低压等离子体也能处理敏感性材料。等离子刻蚀机的典型应用包括:等离子体清除浮渣光阻材
发布时间:2018-08-04 点击次数:161
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从某种程度来讲,等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应,反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等
发布时间:2018-02-01 点击次数:137
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由于等离子刻蚀机工艺中的过程变量,如刻蚀率、气压、温度、等离子阻抗,等等,不易测量,虚拟测量(VirtualMetrology)光谱测量(Opticalemissionspectroscopy)等离子阻抗监控(Plasmaimpe
发布时间:2018-02-01 点击次数:127
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苏州赛森电子科技有限公司成立于2014年,是一家为国内半导体,MEMS及光电产业客户提供再制造设备,零配件及服务的公司。我们的核心产品线包括NovellusC1/C2PECVD,LamRainbow/TCP系列刻蚀机以及AMATP5
发布时间:2018-02-01 点击次数:167
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当刻蚀气体被通入刻蚀反应腔中,在射频电场的作用下产生等离子体辉光放电,反应气体分解成各种中性的化学活性基团,分子、电子、离子;由于电子和离子的质量不同使得质量较轻的电子能够响应射频电场的变化而离子却不能,正是这种差异在电极上产生负偏压Vd
发布时间:2018-02-01 点击次数:210
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等离子刻蚀机通常有三种形式:等离子体刻蚀、离子轰击和两种形式的结合反应离子刻蚀(ReactiveIonEtching),下表给出三种刻蚀的特点对照。离子轰击顾名思义是利用高能量惰性气体离子轰击硅片表面,达到溅射刻蚀的作用。因为采用这种方
发布时间:2018-02-01 点击次数:283
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在众多半导体工艺中,刻蚀是决定特征尺寸的核心工艺技术之一。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀。湿法刻蚀采用化学腐蚀进行,是传统的刻蚀工艺。它具有各向同性的缺点,即在刻蚀过程中不但有所需要的纵向刻蚀,也有不需要的横向刻蚀,因而精度差,线宽一般在3um
发布时间:2018-01-05 点击次数:143
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等离子刻蚀机主要采用射频等离子源(也有采用微波离子源)激发反应气体产生等气体离子对目标物进行物理轰击,以达到去除指定物质手段。因为反应力度要求较大,所以等离子刻蚀机基本是采用RF射频等离子发生方式。同理,如果控制等离子源功率和其他相关参数可
发布时间:2018-01-04 点击次数:175
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等离子体处理可应用于所有的基材,甚至复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、等离子体清洗,等离子体镀膜也毫无问题。等离子体处理时的热负荷及机械负荷都很低,因此,低压等离子体也能处理敏感性材料。等离子刻蚀机的典型应用包括:等离子体清除浮渣光阻材
发布时间:2018-01-04 点击次数:184
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反应离子刻蚀机是一款独立式RIE反应离子刻蚀系统,配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品。具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"
发布时间:2018-01-04 点击次数:117
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微波等离子去胶机操作规程: 1、自动切割小车应经空车运转,并选定切割速度; 2、使用钍、钨电极应符合JGJ33-2001第12.7.8条规定; 3、高频发生器应设有屏蔽护罩,用高频引弧后,应立即切断高频电路; 4、应检查并确认电源、
发布时间:2018-01-04 点击次数:142
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在半导体制造业中,各种不同的工艺通常分为四大类:沉积、移除、图案结构、改变电气性能。沉积是一种在晶片上生长、覆盖或转移材料的工艺。可用的技术包括物理气相沉积、化学气相沉积、电化学沉积、分子束外延以及最新的原子层沉积。移除是一种去除晶片上材料
发布时间:2018-01-04 点击次数:105
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干法去胶机工艺是微加工实验中一个非常重要的过程。在电子束曝光、紫外曝光等微纳米加工工艺之后,都需要对光刻胶进行去除或打底膜处理。光刻胶去除的是否干净彻底、对样片是否有损伤等问题将直接影响到后续工艺的顺利完成。等离子去胶机主要用于光刻胶的剥离
发布时间:2018-01-04 点击次数:187
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等离子体系统效应的过程转换成材料的蚀刻工艺。在待刻蚀硅片的两边,分别放置一片与硅片同样大小的玻璃夹板,叠放整齐,用夹具夹紧,确保待刻蚀的硅片中间没有大的缝隙。冷热探针法冷热探针法将夹具平稳放入反应室的支架上,关好反应室的盖子。等离子刻蚀检验
发布时间:2018-03-17 点击次数:280
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等离子刻蚀机在PCB线路板行业去胶渣制程的应用等离子体又叫做电浆,是由有些电子被掠夺后的原子及原子被电离后发生的正负电子构成的离子化气体状物质,也有称其为物质的第四相态。等离子体相态是因为原子中激化的电子和分子无序运动的状况,所
发布时间:2018-09-15 点击次数:248
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从某种程度来讲,等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应,反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等
发布时间:2018-01-03 点击次数:232
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随着经济的发展,消费者对汽车的性能要求越来越高,如汽车的外观、操作舒适性可靠性、使用耐久性等要求也不断提高。为了满足消费者的要求,各汽车厂家在生产汽车时更注重细节方面的优化改进,如进行(
发布时间:2019-09-27 点击次数:140
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等离子去胶法,去胶气体为氧气。其工作原理是将硅片置于真空反应系统中,通入少量氧气,加1500V高压,由高频信号发生器产生高频信号,使石英管内形成强的电磁场,使氧气电离,形成氧离子、活化的氧原子、氧分子和电子等混合物的等离子体的辉光柱。活化
发布时间:2018-01-03 点击次数:470
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随着时代的不断发展,科技飞速进步,各类科技产物应用于我们的生活中,给我们的生产生活带来无限便利。等离子表面处理设备等离子刻蚀机在生产活动中使用广泛,对许多生产活动都有帮助,那么大家知道它是怎样使用的
发布时间:2018-01-03 点击次数:169
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等离子刻蚀机,又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀,是干法刻蚀中最常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成了
发布时间:2018-01-03 点击次数:311
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在众多半导体工艺中,刻蚀是决定特征尺寸的核心工艺技术之一。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀。湿法刻蚀采用化学腐蚀进行,是传统的刻蚀工艺。它具有各向同性的缺点,即在刻蚀过程中不但有所需要的纵向刻蚀,也有不需要的横向刻蚀,因而精度差,线宽一般在3um
发布时间:2018-01-03 点击次数:926
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日前,央视财经频道播出的《感受中国制造》第五集《中国“芯”力量》介绍了中国在半导体设备和半导体原材料上取得的成绩和进步。其中,最引人瞩目的莫过于中国企业在刻蚀机上取得的成绩——16nm刻蚀机实现商业化量产并在客户的生产线上运行,7-10nm
发布时间:2018-07-07 点击次数:240
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工作原理平面刻蚀是在两块平面电极之间进行刻蚀,它与常见的感应耦合等离子体(ICP)不同,是通过高压线圈产生的。我们的SCE系列铝制反应舱等离子体系统是该领域最新的产品。等离子刻蚀机的注意事项#.在设备工作时,禁止扶、靠设备,禁
发布时间:2018-01-02 点击次数:897