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  • [公司新闻] 赛森电子带您了解高真空磁控溅射台

    赛森电子带您了解高真空磁控溅射台1.设备基本构造形式:该设备系是涡轮分子泵+机械泵抽气的单室高真空全不锈钢系统。主真空室下底盘上安装ф50三支磁控靶。真空室上盖上安装样品转盘,样品转盘由水冷和加热炉两套组成,二者不能同时兼用,只能交替使用
    发布时间:2018-01-03   点击次数:80

  • [公司新闻] 如何提高磁控溅射台的溅射效率?

    磁控溅射台通常的溅射方法,溅射效率不高。为了提高溅射效率,首先需要增加气体的离化效率。为了说明这一点,先讨论一下溅射过程。当经过加速的入射离子轰击靶材(阴极)表面时,会引起电子发射,在阴极表面产生的这些电子,开始向阳极加速后进人负辉光区,并
    发布时间:2018-01-04   点击次数:105

  • [技术知识] 磁控溅射台设备用途和功能特点

    磁控溅射台设备用途和功能特点 1、该设备是一种多功能磁控溅射镀膜设备,适用于镀制各种单层膜、多层膜及搀杂膜系。可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜(需配射频电源)、介质复合膜和其它化学反应膜。  2、为避免微粒物
    发布时间:2018-01-03   点击次数:72

  • [技术知识] 什么是全自动型磁控溅射台?

    什么是全自动型磁控溅射台?磁控溅射是为了在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率的方法,全自动型磁控溅射台,通过对真空系统,下游压力闭环控制,射频
    发布时间:2018-04-08   点击次数:92