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  • Chinese plasma etching machine has reached the advanced level in the world中国等离子体刻蚀机...

    日前,央视财经频道播出的《感受中国制造》第五集《中国“芯”力量》介绍了中国在半导体设备和半导体原材料上取得的成绩和进步。其中,最引人瞩目的莫过于中国企业在刻蚀机上取得的成绩——16nm刻蚀机实现商业化量产并在客户的生产线上运行,7-10nm
    发布时间:2018-03-24   点击次数:186

  • 等离子刻蚀工艺--装片Plasma etching process -- chip loading

    等离子体系统效应的过程转换成材料的蚀刻工艺。在待刻蚀硅片的两边,分别放置一片与硅片同样大小的玻璃夹板,叠放整齐,用夹具夹紧,确保待刻蚀的硅片中间没有大的缝隙。冷热探针法冷热探针法将夹具平稳放入反应室的支架上,关好反应室的盖子。等离子刻蚀检验
    发布时间:2018-03-17   点击次数:281

  • 小型等离子去胶机在工作时的表现Performance of small plasma degummer in operation

     小型等离子干法去胶机与其他普通去胶机相比,体积更小、性能优良、用途广泛、效率高、价格低、使用方便。除此之外,小型等离子去胶机还具有十分优秀的均匀性和重复性,因此在各个科研单位和企业中都有十分广泛的应用,而且除了
    发布时间:2018-03-10   点击次数:245

  • 蚀刻机腐蚀加工蚀刻网片的工艺流程Process flow of etching mesh by etching machine

     蚀刻网又称过滤网,采用金属薄片通过蚀刻机腐蚀加工而成,佛山鑫恒力五金机械厂是一家专业生产金属腐蚀机的厂家,我们可按照客户的要求提供全套腐蚀设备和蚀刻工艺技术,蚀刻网片主要作用于生活中的液体分离,常见的产品名称有茶网、豆网、筛网、喇叭网、花
    发布时间:2018-03-03   点击次数:251

  • 2018 Chinese semiconductor material and equipment industry development conference ...

    导语:2018中国半导体材料及设备产业发展大会日前在北京举行。大会由中国电子信息产业发展研究院主办、邳州市政府协办,旨在通过梳理半导体产业的发展方向、推介半导体材料及设备产业的创新理念,共同促进半导体
    发布时间:2018-02-27   点击次数:190

  • 刻蚀的具体过程可描述几个步骤?How many steps can be described in the etching process?

    当刻蚀气体被通入刻蚀反应腔中,在射频电场的作用下产生等离子体辉光放电,反应气体分解成各种中性的化学活性基团,分子、电子、离子;由于电子和离子的质量不同使得质量较轻的电子能够响应射频电场的变化而离子却不能,正是这种差异在电极上产生负偏压Vd
    发布时间:2018-02-01   点击次数:212

  • 赛森电子科技是做什么的?What does Cycas electronic technology do?

    苏州赛森电子科技有限公司成立于2014年,是一家为国内半导体,MEMS及光电产业客户提供再制造设备,零配件及服务的公司。我们的核心产品线包括NovellusC1/C2PECVD,LamRainbow/TCP系列刻蚀机以及AMATP5
    发布时间:2018-02-01   点击次数:168

  • 什么公司会用到等离子刻蚀机What company will use plasma etching machine

    从某种程度来讲,等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应,反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等
    发布时间:2018-02-01   点击次数:138

  • 等离子刻蚀机通常有几种形式?How many kinds of plasma etchers are there?

    等离子刻蚀机通常有三种形式:等离子体刻蚀、离子轰击和两种形式的结合反应离子刻蚀(ReactiveIonEtching),下表给出三种刻蚀的特点对照。离子轰击顾名思义是利用高能量惰性气体离子轰击硅片表面,达到溅射刻蚀的作用。因为采用这种方
    发布时间:2018-02-01   点击次数:284

  • What is intermediate frequency magnetron sputtering?

    在中频反应溅射中,当靶上所加的电压处于负半周时,靶面被正离子溅射;而在正半周时,等离子体中的电子被加速到靶面,中和了靶面上积累的正电荷,从而抑制了打火。但在确定的工作场强下,频率越高,等离子体中正离子
    发布时间:2018-02-01   点击次数:140

  • Measurement and control of plasma etching in plasma etcher等离子刻蚀机的等离子刻蚀的测量与控制

    由于等离子刻蚀机工艺中的过程变量,如刻蚀率、气压、温度、等离子阻抗,等等,不易测量,虚拟测量(VirtualMetrology)光谱测量(Opticalemissionspectroscopy)等离子阻抗监控(Plasmaimpe
    发布时间:2018-02-01   点击次数:128

  • Reactive ion etching machine is an independent RIE reactive ion etching system反...

    反应离子刻蚀机是一款独立式RIE反应离子刻蚀系统,配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品。具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"
    发布时间:2018-02-01   点击次数:286

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