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Magnetron sputtering (磁控溅射台))

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  • 微波等离子去胶机操作规程 Operation procedures of microwave plasma degummer:

    微波等离子去胶机操作规程:  1、自动切割小车应经空车运转,并选定切割速度;  2、使用钍、钨电极应符合JGJ33-2001第12.7.8条规定;  3、高频发生器应设有屏蔽护罩,用高频引弧后,应立即切断高频电路;  4、应检查并确认电源、
    发布时间:2019-05-25   点击次数:102

  • 真空退火炉工艺布置及高温密封圈概况Process layout and high temperature sealing ring of vacuum anneali...

    真空退火炉各段工艺布置:①向上的预热段通道;②向下的直燃段通道;③水平辐射管加热段;④电辐射管均热段;⑤循环保护气体喷射冷却段;⑥炉鼻子系统。在退火过程中,带钢首先通过向上行程的预热段的双密封辊进入炉内开始退火,预热段的加热由直燃段的燃烧产
    发布时间:2019-05-11   点击次数:284

  • 快速退火炉维修注意事项:Precautions for maintenance of rapid annealing furnace:

    概述:快速退火炉是以碘钨灯管为发热元件,升温速度极快,采用S型热电偶测温并采用国际领先的模糊PID控制,具有很高的控温精度〈±5℃〉,快速退火炉具有真空装置,可在多种气氛下工作。仅仅是退火炉的一个小品种。维修注意事项:1.炉子首次使用或长
    发布时间:2019-04-27   点击次数:228

  • In the plasma degumming machine, what is the main gas that plays a degumming ...

     小型等离子干法去胶机与其他普通去胶机相比,体积更小、性能优良、用途广泛、效率高、价格低、使用方便。除此之外,小型等离子去胶机还具有十分优秀的均匀性和重复性,因此在各个科研单位和企业中都有十分广泛的应用,而且除了可以进行RIE刻蚀之外,还
    发布时间:2019-04-13   点击次数:391

  • 磁控溅射种类?Magnetron sputtering type?

      磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。  靶源分平衡和非平衡式,平衡式
    发布时间:2019-03-30   点击次数:373

  • 等离子干法去胶机反应机理:Reaction mechanism of plasma dry degumming machine:

    1)等离子干法去胶机反应机理:在干法等离子去胶技术中,氧是首要腐蚀气体。它在真空等离子去胶机反响室中受高频及微波能量效果,电离发生氧离子、游离态氧原子O*、氧分子和电子等混合的等离子体,其间具有强氧化才能的游离
    发布时间:2019-03-16   点击次数:412

  • Microwave plasma dry degumming machine operation and personnel微波等离子干法去胶机操作及配合人员防...

      微波等离子干法去胶机操作及配合人员防护:  1、作业后,应切断电源,关闭气源和水源;  2、高空切割时,必须系好安全带,切接切割周围和下方应采取防火措施,并应有专人监护;  3、现场使用的等离子切割机机,应设有防雨、防潮、防晒的机棚,并
    发布时间:2019-03-02   点击次数:406

  • PVD沉积方式的比较Comparison of PVD deposition methods

    一.PVD是指什么?PVD(PhysicalVaporDeposition),在真空条件下,采用物理方法,使材料源表面气化成原子、分子或离子,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。PVD主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。二.真空蒸镀
    发布时间:2019-02-16   点击次数:706

  • Study on the properties of aluminum plating by electron beam evaporation and magne...

    膜厚严格控制发铝膜的厚度是十分重要的,因为铝膜的厚度将直接影响Al膜的其它性能,从而影响半导体器件的可靠性。对于高反压功率管来说,它的工作电压高,电流大,没有一定厚度的金属膜会造成成单位面积铝膜上电流密度过高,易烧毁。对于一般的半导体器件,
    发布时间:2019-01-26   点击次数:382

  • Principle and solution of medium frequency magnetron sputtering coating technology...

    真空炉磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电子交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。在近几十年的发展中,大家逐渐采
    发布时间:2019-01-19   点击次数:491

  • 磁控溅射的工作原理是什么?What is the working principle of magnetron sputtering?

    磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积
    发布时间:2019-01-05   点击次数:461

  • 蚀刻机腐蚀加工蚀刻网片的工艺流程Process flow of etching mesh by etching machine

      蚀刻网又称过滤网,采用金属薄片通过蚀刻机腐蚀加工而成,我公司是一家专业生产金属腐蚀机的厂家,我们可按照客户的要求提供全套腐蚀设备和蚀刻工艺技术,蚀刻网片主要作用于生活中的液体分离,常见的产品名称有茶网、豆网、筛网、喇叭网、花洒片等等统称
    发布时间:2018-12-22   点击次数:613

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