新闻资讯
联系我们
名 称：苏州赛森电子科技有限公司
电 话：0512-58987901
传 真：0512-58987201
邮 箱：sales@cycas.com
地 址：江苏省张家港经济开发区福新路1202号 215600PRC
网 址：www.cycas.com
Name: Suzhou cycas Microelectronics Co., Ltd.
Tel.: 0512-58987901
Fax: 0512-58987201
Email: sales@cycas.com
Address: No.1202,Fuxin Road,Zhangjiagang Economic Development Zone,Jiangsu Province 215600PRC
Website: www.cycas.com
-
等离子综合性技术有哪些？ What are the comprehensive plasma technologies?
等离子综合性技术有哪些？等离子体技术是一个集物理学、化学、生物学和环境科学于一体的交叉综合性技术，该技术显著特点是对污染物兼具物理效应、化学效应和生物效应，且有能耗低、效率高、无二次污染等明显优点。&发布时间：2019-11-14 点击次数：138 -
等离子刻蚀技术 Plasma etching technology
等离子刻蚀技术等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气发布时间：2019-10-31 点击次数：266 -
Application of plasma cleaning machine in semiconductor etching process等离子清洗机在半导体刻...
等离子清洗机在半导体刻蚀工艺中的应用生产集成电路的第一步是通过掩模向基底透射电路图案。光敏性聚合物光刻胶经紫外线曝光后，受照射部分通过显影作用去除。一旦电路图案在光刻胶上定型后，即可通过刻蚀工艺将图案复制到多晶硅等质地的基底薄膜上，从而形成发布时间：2019-10-11 点击次数：175 -
等离子技术在汽车工业的使用Application of plasma technology in automobile industry
随着经济的发展，消费者对汽车的性能要求越来越高，如汽车的外观、操作舒适性可靠性、使用耐久性等要求也不断提高。为了满足消费者的要求，各汽车厂家在生产汽车时更注重细节方面的优化改进，如进行（发布时间：2019-09-27 点击次数：141 -
干法去胶工艺原理及使用？Principle and application of dry degumming process?
大气等离子处理器让生产成本和产品价格下降等离子加工机是工件的等离子体表面处理的表面，使工件的表面，以增强附着力，便于包装和粘附性，这是非常重要的在包装印刷行业。因为在等离子表面处理设备前就没有出现糊大大提高印刷和包发布时间：2019-09-16 点击次数：3574 -
How to improve the utilization rate is the key point of vacuum magnetron sputte...
磁控溅射靶材的利用率可成为磁控溅射源的工程设计和生产工艺成本核算的一个参数。截止2012年，还没有见到对磁控溅射靶材利用率专门或系统研究的报道，而从理论上对磁控溅射靶材利用率近似计算的探讨具有实际意义。对于静态直冷矩形平面靶，即靶材与磁体之发布时间：2019-08-31 点击次数：214 -
微波等离子干法去胶机影响因素：Influencing factors of microwave plasma dry degumming machine:
微波等离子干法去胶机影响因素： 频率选择：频率越高，氧越易电离形成等离子体。频率太高，以至电子振幅比其平均自由程还短，则电子与气体分子碰撞几率反而减少，使电离率降低。一般常用频率为13.56MHz及2.45GHZ。 功率影响：对于一发布时间：2019-08-17 点击次数：422 -
磁控溅射各有不同工作原理和应用对象Magnetron sputtering has different working principles and applicat...
磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜发布时间：2019-08-03 点击次数：276 -
选择真空退火炉需要考虑的因素 Factors to be considered in selecting vacuum annealing furnace
真空退火炉是实现真空热处理的重要设备。随着真空退火炉在我们生产生活中的应用越来越广泛，选购真空退火炉也成为消费者头疼的问题，那么选择真空退火炉需要考虑的因素有哪些呢？下面小编给大家介绍下。 1、应根据所要热处理的零件化学成分和加热温度发布时间：2019-07-20 点击次数：167 -
The third industrial transfer of semiconductors, Chinas decisive victory in th...
国内需求庞大，政府大力支持，技术逐渐成熟，中国芯片产业正在经历进口替代的浪潮。在已经到来的半导体行业第三次产业转移中，中国将以坚定的决心和充分的准备成为最大获益者。 1.1.1.全球半导体行业持续高景气，芯片仍是核心 内存价格上涨带发布时间：2019-07-06 点击次数：163 -
磁控溅射设备的主要用途Main uses of magnetron sputtering equipment
（1）各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，以提高太阳能电池的光电转换效率。（2）装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。（3）在微电子领域作为一种非热式镀膜发布时间：2019-06-22 点击次数：450 -
Sputtering is to bombard the target surface with charged particles in vacuum溅射镀...
溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。通常，利用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。阴极靶由镀膜材料制成，基片作为阳极，真空室中通入0.1-10Pa的氩气或其它惰性气体，在阴极（靶）1-3KV直流负发布时间：2019-06-08 点击次数：212