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蚀刻机产业的全新时代A new era of etcher industry
起初蚀刻机产业也是由生产效率低，资金缺失，造成企业发展缓慢止步不前。但是国人是坚强的，不甘落后。努力学习生产技术，借鉴国外精英厂商的先进生产技术，也一步一步进行着设备升级，研发新科技产品。蚀刻机在我国存在也有几十个年头了，期间有不少的厂家兴发布时间：2018-01-04 点击次数：147 -
Is plasma etching (dry etching) and plasma cleaning one thing等离子蚀刻机（干刻）与等离子清洗机...
等离子刻蚀机主要采用射频等离子源（也有采用微波离子源）激发反应气体产生等气体离子对目标物进行物理轰击，以达到去除指定物质手段。因为反应力度要求较大，所以等离子刻蚀机基本是采用RF射频等离子发生方式。同理，如果控制等离子源功率和其他相关参数可发布时间：2018-01-04 点击次数：177 -
赛森电子科技告诉你磁控溅射的种类Cycas Microelectronics tells you the type of magnetron sputtering
磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。磁控溅射台所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。靶源分平衡和非平衡式，平衡发布时间：2018-01-03 点击次数：587 -
半导体设备硅刻蚀机概述Overview of silicon etcher for semiconductor equipment
在众多半导体工艺中，刻蚀是决定特征尺寸的核心工艺技术之一。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀。湿法刻蚀采用化学腐蚀进行，是传统的刻蚀工艺。它具有各向同性的缺点，即在刻蚀过程中不但有所需要的纵向刻蚀，也有不需要的横向刻蚀，因而精度差，线宽一般在3um发布时间：2018-01-03 点击次数：966 -
什么公司会用到等离子刻蚀机？What companies use plasma etchers?
从某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等发布时间：2018-01-03 点击次数：233 -
赛森电子带您了解高真空磁控溅射台Cycas electronics show you the high vacuum magnetron sputtering tabl...
赛森电子带您了解高真空磁控溅射台1．设备基本构造形式：该设备系是涡轮分子泵＋机械泵抽气的单室高真空全不锈钢系统。主真空室下底盘上安装ф50三支磁控靶。真空室上盖上安装样品转盘，样品转盘由水冷和加热炉两套组成，二者不能同时兼用，只能交替使用发布时间：2018-01-03 点击次数：285