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磁控溅射具有“低温”、“高速”两大特点

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磁控溅射具有“低温”、“高速”两大特点

发布日期:2019-12-30 作者: 点击:

磁控溅射具有“低温”、“高速”两大特点

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   产生这两大特点的原理为:磁控溅射是以磁场来改变电子的运动方向,并束缚和延长电子的运动轨迹,从而提高电子对工作气体的电离几率和有效的利用了电子的能量。因此,是正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效。同时受正交电磁场的束缚电子,又只能在其能量要耗尽时才沉积在基片上。所以磁控溅射具有“低温”“高速”这两大特点。


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