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等离子刻蚀机的工作原理和注意事项

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等离子刻蚀机的工作原理和注意事项

发布日期:2018-01-02 作者: 点击:

工作原理 平面刻蚀是在两块平面电极之间进行刻蚀,它与常见的感应耦合等离子体(ICP)不同,是通过高压线圈产生的。我们的SCE系列铝制反应舱等离子体系统是该领域最新的产品。

等离子刻蚀机的注意事项 

#.在设备工作时,禁止扶、靠设备,禁止触摸高频电缆和线圈,以免发生意外

#.高频电源实际使用功率不能超过最大限制#.检查设备时,必须关机后切断电源 

#. 工作场地必须保持清洁、干燥,设备上及设备周围不得放置无关物品,特别是易燃、易爆物品 

#.长期停放时注意防潮,拆除电源进线,每隔3-5天开一次机,保证反应室真空以免被污 染 

#.设备停机、过夜也要保持反应室真空,如停机较长时间后再进行刻蚀工艺,需先进行一次空载刻蚀,再刻蚀硅片


本文网址:http://www.cycas.com/news/218.html

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